半导体计量的两种互补技术。
WLI: 白光干涉测量是一种光学技术，它可以对非常宽的区域进行成像，速度非常快，满足高吞吐量测量。
AFM: 原子力显微镜是一种扫描探针技术，即使对透明材料也能提供准确的纳米级分辨率测量。

WLI和AFM在视野,分辨率和速度方面结合。

WLI应用需要比WLI 能力更高的分辨率和精度
化学机械抛光计量和监测
封装
全掩模的热点和缺陷检测
晶圆级计量
 
AFM应用需要更大的区域和更高的吞吐量
In-line 晶圆计量
长行程CMP轮廓表征
亚埃级表面粗糙度控制
晶圆检验与分析

NX-Hybrid WLI 功能
Park WLI系统
Park WLI支持WLI和PSI模式（PSI模式由电动过滤器变换器 支持）
可用物镜放大倍数：2.5X 、10X、20X、50X、100X
两个物镜可由电动线性换镜器自动更换

WLI光学干涉测量
扫描 Mirau 物镜高度时，由干涉引起的光强变化可以计算每个像素处的样品表面高度
白光干涉测量 (WLI) 和相移干涉测量 (PSI) 是两种常用的表面表征技术

NX-Hybrid WLI 应用
热点检测和审查
热点快速调查和热点缺陷自动审查
可以通过比较参考和目标样品区域的图像来检测图案结构的热点
WLI 的高速“热点检测”可以快速定位缺陷位置，以进行高分辨率 AFM 审查